一种超高频压电谐振器及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202010010106.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN111294007A | 公开(公告)日 | 2020-06-16 |
申请公布号 | CN111294007A | 申请公布日 | 2020-06-16 |
分类号 | H03H3/02(2006.01)I;H03H9/17(2006.01)I | 分类 | 基本电子电路; |
发明人 | 孙成亮;刘婕妤;王磊;童欣;邹杨;周杰 | 申请(专利权)人 | 武汉敏声新技术有限公司 |
代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人 | 武汉大学;武汉敏声新技术有限公司 |
地址 | 430072湖北省武汉市武昌区八一路299号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明属于谐振器领域,提供一种超高频压电谐振器及其制备方法,解决超高频压电谐振器采用背部刻蚀的方式在衬底上形成空腔而造成刻蚀表面不平整、刻蚀厚度不均匀和应力集中而影响器件的性能的问题。该方法包括在衬底的上表面刻蚀出凹槽;在凹槽的表面沉积第一隔离层,第一隔离层的厚度小于所述凹槽的深度;在整个凹槽内填满牺牲层,牺牲层的上表面与衬底层的上表面齐平;在填有牺牲层的衬底的上表面沉积第二隔离层;在第二隔离层的上表面形成压电层;在压电层的上表面形成电极层;在凹槽的上方形成释放口,通过释放口去除牺牲层形成空腔。本发明通过用两个隔离层包围凹槽内的牺牲层,可以避免去除牺牲层时造成刻蚀表面不平整的问题。 |
