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退镀装置

基本信息

申请号 CN201721882401.X 申请日 -
公开（公告）号 CN207699718U 公开（公告）日 2018-08-07
申请公布号 CN207699718U 申请公布日 2018-08-07
分类号 C25F5/00;C25F7/00 分类 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕;
发明人 桑建新;董耀宗;董明 申请（专利权）人 上海冠众光学科技有限公司
代理机构 上海硕力知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 上海冠众光学科技有限公司
地址 201400 上海市奉贤区南桥镇运河北路1185号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种退镀装置，用于对光学薄膜表面进行退镀处理，包括反应槽，所述反应槽一侧壁上设置一安装支架；所述安装支架包括一用于固定所述光学薄膜的框架和用于与所述反应槽连接的连接板，所述连接板沿所述框架的一侧边侧壁垂直所述框架方向延伸得到；所述框架的一侧设置一导电夹，相对的另一侧设置一固定装置，所述光学薄膜一端夹设在所述导电夹中，另一端通过所述固定装置进行固定，使其所述光学薄膜平整地铺设在所述框架下方。本实用新型通过用于安装光学薄膜的安装支架与反应槽的接，能够保证需处理的光学薄膜被平整的放入反应槽内的电解液中进行电解反应，从而有效地提高处理效果，避免不必要的材料浪费。