一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法
基本信息
| 申请号 | CN201410112684.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103897607B | 公开（公告）日 | 2015-08-19 |
| 申请公布号 | CN103897607B | 申请公布日 | 2015-08-19 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 高玉强;梁庆瑞;王希杰;李印 | 申请（专利权）人 | 济南槐荫财金投资有限责任公司 |
| 代理机构 | 济南舜源专利事务所有限公司 | 代理人 | 苗峻 |
| 地址 | 250118 山东省济南市槐荫区美里湖美里路中段 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法，以金刚石微粉和氧化铝微粉为磨料，与水和分散剂配制而成的抛光液对大直径高硬度的碳化硅进行机械抛光，能够减少显微镜下碳化硅晶片的可见划痕数目，获得粗糙度小、平整度高、表面损伤小的碳化硅晶片表面，为后续进行化学机械抛光提供条件。 |
