薄膜处理系统和方法

基本信息

申请号 CN202010485971.5 申请日 -
公开(公告)号 CN113766759A 公开(公告)日 2021-12-07
申请公布号 CN113766759A 申请公布日 2021-12-07
分类号 H05K3/10(2006.01)I;H05K3/26(2006.01)I 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 周小红;基亮亮;刘麟跃 申请(专利权)人 维业达科技(江苏)有限公司
代理机构 苏州简理知识产权代理有限公司 代理人 朱亦倩
地址 215123江苏省苏州市工业园区新昌路68号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种薄膜处理系统和方法,所述薄膜处理系统包括:第一上浆装置,在薄膜带的第一表面上涂布导电浆料;第一填刮装置,将所述导电浆料填刮至第一图案的凹槽内;第一裱干装置,对填充于第一图案的凹槽内所述导电浆料进行干化;第一抛光装置,对经过第一裱干装置的薄膜带的第一表面进行抛光;第二上浆装置,在薄膜带的第二表面上涂布导电浆料;第二填刮装置,将所述导电浆料填刮至第二图案的凹槽内;第二裱干装置,对填充于第二图案的凹槽内所述导电浆料进行干化;第二抛光装置,对经过第二裱干装置的薄膜带的第二表面进行抛光。这样可以在一个处理流程中,实现对所述薄膜带的双面进行上浆、填刮、裱干和抛光处理,无需中断,生产效率高。