一种提高射频电感品质因数的方法
基本信息
| 申请号 | CN202210121684.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114447224A | 公开（公告）日 | 2022-05-06 |
| 申请公布号 | CN114447224A | 申请公布日 | 2022-05-06 |
| 分类号 | H01L49/02（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 谢旭平;卢煜旻;朱欣恩 | 申请（专利权）人 | 上海矽杰微电子有限公司 |
| 代理机构 | 嘉兴启帆专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 程开生 |
| 地址 | 201800上海市嘉定区叶城路1288号6幢J461室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种提高射频电感品质因数的方法，包括步骤S1：根据硅衬底工艺从而选定衬底层；步骤S2：在衬底层的一侧设置金属层，并且根据需求设置金属层中的金属结构的材质、金属结构的数量和介质结构的材质。本发明公开的一种提高射频电感品质因数的方法，其通过金属层和衬底层进行设置，并且根据需求设定金属层的材质和数量以及设定衬底层的厚度，以减薄衬底层的厚度从而提高片上射频电感Q值。 |
