真空镀膜设备用磁导向装置
基本信息
| 申请号 | CN201520038422.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN204550702U | 公开（公告）日 | 2015-08-12 |
| 申请公布号 | CN204550702U | 申请公布日 | 2015-08-12 |
| 分类号 | C23C14/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李东岳;张学星;王兴立;王建军;张彦清;袁志尧 | 申请（专利权）人 | 承德新新机械制造有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 张海英;胡彬 |
| 地址 | 067001 河北省承德市双滦区双塔山元宝山大街24号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空镀膜设备用磁导向装置，属于机械制造设备技术领域，为解决现有磁导向装置导向不稳定等问题而设计。一种真空镀膜设备用磁导向装置包括设在真空镀膜箱形成的真空腔体内的内磁导向组件、设在内磁导向组件下部的基片架以及设在真空镀膜箱外侧的外磁导向组件，其中，内磁导向组件包括内磁钢压板和通过内磁钢压板固定的内磁钢；基片架在朝磁导向组件的一端设有支撑磁钢；内磁钢的N极与支撑磁钢的S极相对或内磁钢的S极与支撑磁钢的N极相对，内磁导向组件通过异极相吸为所述基片架提供支撑和导向。该真空镀膜设备用磁导向装置支撑和导向稳定、安装方便、制造成本低。 |
