一种去除氮化硼内氧化硼杂质且溶剂可重复使用的导热绝缘聚酰亚胺薄膜的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111594727.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114196051A | 公开（公告）日 | 2022-03-18 |
| 申请公布号 | CN114196051A | 申请公布日 | 2022-03-18 |
| 分类号 | C08J5/18（2006.01）I;C08L79/08（2006.01）I;C08K3/38（2006.01）I | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 蒋耿杰;白小庆;潘钦鹏;周福龙;姬亚宁;马纪翔 | 申请（专利权）人 | 桂林电器科学研究院有限公司 |
| 代理机构 | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 唐智芳 |
| 地址 | 541004广西壮族自治区桂林市七星区东城路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种去除氮化硼内氧化硼杂质且溶剂可重复使用的导热绝缘聚酰亚胺薄膜的制备方法，包括：将氮化硼用含水的极性非质子溶剂均匀分散，所得分散液置于反应釜中，控制釜内压力和温度使釜内水分充分蒸发；然后将反应釜泄压至常压，加入二胺和二酐，当二酐的总加入量为二胺的90～98mol％时，再控制釜内压力和温度使釜内水分继续蒸发；泄压后调酐得到PAA树脂；所得树脂经流涎、亚胺化即得导热绝缘聚酰亚胺薄膜；收集流涎程序和亚胺化程序中产生的尾气并进行冷凝，得到回收溶剂，该回收溶剂在制备下一批次薄膜时使用。本发明所述方法可以在PAA树脂合成阶段排出氮化硼中的氧化硼，回收的溶剂可用于下批次生产，且可连续生产。 |
