一种低黑度聚酰亚胺遮光膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111361607.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113831735A | 公开（公告）日 | 2021-12-24 |
| 申请公布号 | CN113831735A | 申请公布日 | 2021-12-24 |
| 分类号 | C08L79/08（2006.01）I;C08L71/02（2006.01）I;C08K3/04（2006.01）I;C08K3/22（2006.01）I;C08J5/18（2006.01）I | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 姬亚宁;青双桂;周福龙;潘钦鹏;刘姣;白小庆 | 申请（专利权）人 | 桂林电器科学研究院有限公司 |
| 代理机构 | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 唐智芳 |
| 地址 | 541004广西壮族自治区桂林市七星区东城路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种低黑度聚酰亚胺遮光膜及其制备方法，属于聚酰亚胺材料技术领域。本发明所述的低黑度聚酰亚胺遮光膜采用包括但不限于以下重量配比的组分制备而成：聚酰胺酸树脂100、炭黑2～4、消光粉3～10、钛白粉8～20、有机硅光扩散剂2～8、聚乙二醇0.08～0.2。本发明采用遮盖力较高的钛白粉包裹的耐高温有机硅光扩散剂复合填料与纳米炭黑复配组合，所得组合填料具有遮光和光线发生多次折射的作用，使所得遮光膜在可见光范围内透光率降低至0.1％以下，黑度87～94％，L值35.0～36.5，光泽度≤17GU，外观呈现出高级灰质感和亚光表面，能够满足高端光电领域应用。 |
