一种用于单晶硅热场的加热器
基本信息
| 申请号 | CN201120315050.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202226960U | 公开（公告）日 | 2012-05-23 |
| 申请公布号 | CN202226960U | 申请公布日 | 2012-05-23 |
| 分类号 | C30B15/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 李宁;赵世锋;张卫中;王汉召;金莹;李雷 | 申请（专利权）人 | 河北宇晶电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 石家庄汇科专利商标事务所 | 代理人 | 刘闻铎 |
| 地址 | 065201 河北省廊坊市三河市燕郊经济技术开发区迎宾路晶龙集团工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型应用于电子、光伏行业，涉及一种用于单晶硅热场的加热器，包括两个支撑脚和连接配装在两个支撑脚之间的加热片，加热片为上、下连续回绕的蛇形且回绕的加热片之间留有间隙，所述的上、下回绕的加热片为上宽下窄的设置。本实用新型采用非均匀的加热器加热片，可以使加热器的高温区域向下移动，从而使加热器上部的温度梯度加大，同时使适合晶体生长的温度区域加大，结晶前沿横向的温度梯度适当平稳。 |
