一种紫外再构自微孔聚合物膜的制备方法及应用

基本信息

申请号 CN201610163920.4 申请日 -
公开(公告)号 CN107213802A 公开(公告)日 2017-09-29
申请公布号 CN107213802A 申请公布日 2017-09-29
分类号 B01D71/06(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;B01D53/22(2006.01)I 分类 一般的物理或化学的方法或装置;
发明人 胡文翰;肖有昌;李屹;王开宇;杨乾 申请(专利权)人 苏州信望膜技术有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 215121 江苏省苏州市工业园区唯亭镇金陵东路156号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种紫外再构自微孔聚合物膜的制备方法及应用,将未经紫外再构的自微孔聚合物材料放在紫外线下照射持续一段时间。在紫外线的照射下,亚甲基基团的共价键被打破,释放出一个氢原子形成自由基离子中间体,受相邻烃基的影响,1,2迁移反应形成环己环。在反应过程中螺旋碳中心被破坏,聚合物链扭曲接近片面,聚合物链之间的堆砌更密集,这导致了聚合材料微孔和自由体积的变小。紫外再构自微孔聚合物膜可用于氢气/二氧化碳,氢气/二氧化碳/一氧化碳,二氧化碳/甲烷,二氧化碳/甲烷/硫化氢,氢气/氮气,氧气/氮气这些混合气的分离。