一种晶片研磨装置

基本信息

申请号 CN201620789165.6 申请日 -
公开(公告)号 CN206066202U 公开(公告)日 2017-04-05
申请公布号 CN206066202U 申请公布日 2017-04-05
分类号 B24B37/30(2012.01)I;B24B37/10(2012.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 刘砚斌;张富;郭全斌 申请(专利权)人 中科晶电信息材料(北京)股份有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 100176 北京市大兴区经济技术开发区永昌南路2号
法律状态 -

摘要

摘要 本申请的目的是公开一种晶片研磨装置,其特征在于,包括研磨盘和研磨块,所述研磨盘的上下表面具有向内凹的限位槽,所述研磨块完全覆盖所述研磨盘的限位槽,所述限位槽的数量为至少两个;本实用新型所述的晶片研磨装置,所述研磨盘的上下表面具有向内凹的限位槽,所述限位槽的数量为至少两个,因而可以同时研磨多个晶片,大大提高了研磨的效率,节省人工人力成本,可适用于晶片的批量生产,使用广泛,市场价值大。