一种重离子核孔铜箔的制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201710622651.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107287598B | 公开（公告）日 | 2019-01-01 |
| 申请公布号 | CN107287598B | 申请公布日 | 2019-01-01 |
| 分类号 | C23F1/34 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孙良学 | 申请（专利权）人 | 库仑核孔膜科技（枣庄）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 277800 山东省枣庄高新区兴城街道办事处宁波路1069号三楼西侧303室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种重离子核孔铜箔的制作方法，包括以下步骤：(1)辐照：将厚度≤60mm的铜箔用重离子加速器辐照，形成潜径迹，得到潜径迹铜箔；(2)制备蚀刻液；(3)蚀刻：采用蚀刻液对步骤(1)所得到潜径迹铜箔进行蚀刻，在蚀刻过程中，随着铜的溶解补加氨水和氯化铵；蚀刻后得到核孔铜箔，蚀刻后的铜箔厚度减薄；(4)将蚀刻后的核孔铜箔在纯水中清洗，烘干，然后打卷，即得成品。本发明的重离子核孔铜箔的制作方法制作的重离子核孔铜箔具有孔密度大、孔分布均匀、孔径大小可控的优点，在锂电池生产、定量分析、高分子聚合物分离中有广泛的用途。 |
