一种方便安装的磁控溅射靶材

基本信息

申请号 CN202120325101.1 申请日 -
公开(公告)号 CN214300330U 公开(公告)日 2021-09-28
申请公布号 CN214300330U 申请公布日 2021-09-28
分类号 C23C14/35(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 侯玉萍;王洪权 申请(专利权)人 大连威钛克纳米科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 116113辽宁省大连市经济技术开发区东北七街13号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种方便安装的磁控溅射靶材,包括装置本体,所述装置本体底端安装有固定底座,所述固定底座内壁设有限定孔,所述限定孔内部设有限定螺栓,所述固定底座内壁两侧均设有活动槽,所述活动槽内部设有活动夹板,所述活动夹板一侧设有缓冲杆,所述缓冲杆一侧设有活动座,所述活动座与活动槽内壁之间设有限定弹簧。本实用新型通过活动夹板和限定螺栓的设置,活动夹板在缓冲杆和限定弹簧的弹力作用下可以对安装部位进行夹持和固定,使得靶材可以适应不同尺寸的安装部位的安装工作,通过限定螺栓可以将靶材与安装部位进一步连接,可以避免靶材在工作过程中出现松动的情况,进而使得靶材的安装和拆卸更加的便捷。