一种PVD磁控离子镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202120325219.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214300331U | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN214300331U | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李秀艳;王洪权 | 申请（专利权）人 | 大连威钛克纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 116113辽宁省大连市经济技术开发区东北七街13号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种PVD磁控离子镀膜设备，包括镀膜腔，所述镀膜腔顶部固定设置有电机，所述电机输出轴端部传动连接有转轴，所述转轴外周面连接有两个固定圈，两个所述固定圈外周面均连接有圆盘，两个所述圆盘顶部均贯穿设置有四个转杆，多个所述转杆顶部均连接有转盘，且多个所述转杆底部均固定设置有行星齿轮，所述镀膜腔内腔顶部以及底部均设置有内齿圈，两个所述内齿圈均与对应位置的四个行星齿轮相啮合。本实用新型通过电机带动多个待镀膜件做环形移动的同时自转，当多个待镀膜件转动至靶阴极附近时，靶阴极溅射的等离子实现对自转待镀膜件均匀镀膜，镀膜效果较好，且一次实现对多个待镀膜件镀膜，镀膜效率较高。 |
