一种晶界扩散制备钕铁硼磁体的方法
基本信息
申请号 | CN202010631985.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN111710519A | 公开(公告)日 | 2020-09-25 |
申请公布号 | CN111710519A | 申请公布日 | 2020-09-25 |
分类号 | H01F41/02(2006.01)I;H01F1/057(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 吕竹风;黄家炽 | 申请(专利权)人 | 宁德市星宇科技有限公司 |
代理机构 | 福州市博深专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 宁德市星宇科技有限公司 |
地址 | 352100福建省宁德市东侨开发区团圆路8号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种晶界扩散制备钕铁硼磁体的方法,包括将厚度为8~12mm的基础钕铁硼磁体经稀无机酸溶液处理后进行干燥;将扩散合金片Pr50Tb20Cu30附着在干燥后的基础钕铁硼磁体的上下表面,然后放在热压炉中,对热压炉抽真空,在真空状态下进行升温至700~800℃时,开始施加压力20~30MPa,并保压7~10h,然后泄压至常压、重新抽真空,继续升温至850~950℃,保温1~2h;将扩散后的试样在真空炉中先后于不同的温度进行退火处理。本发明能生产出磁体矫顽力、剩磁且样品厚度均令人满意的钕铁硼磁体。 |
