一种暗场掩模板
基本信息
| 申请号 | CN201820003634.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN207992678U | 公开（公告）日 | 2018-10-19 |
| 申请公布号 | CN207992678U | 申请公布日 | 2018-10-19 |
| 分类号 | G03F1/42 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 于江勇;廖翌如;赵磊;刘园园 | 申请（专利权）人 | 北京宇翔电子有限公司 |
| 代理机构 | 北京正理专利代理有限公司 | 代理人 | 张雪梅 |
| 地址 | 100015 北京市朝阳区万红西街2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种暗场掩模板，该暗场掩模板包括：观察区、粗对准区和精确对准区，其中，观察区内部被切割出矩形的图形区，用于透过其观察待光刻晶圆上的图形，并用于寻找待光刻晶圆上的用于粗对准的标识和用于精确对准的标识；粗对准区，包括用于粗对准的图形，用于粗对准的图形布置为与待光刻晶圆上的、用于粗对准的标识相对应；以及精确对准区，包括用于精确对准的图形，用于精确对准的图形布置为与待光刻晶圆上的、用于精确对准的标识相对应。 |
