一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构

基本信息

申请号 CN202122591764.0 申请日 -
公开(公告)号 CN215968292U 公开(公告)日 2022-03-08
申请公布号 CN215968292U 申请公布日 2022-03-08
分类号 B24C9/00(2006.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 孔伟华 申请(专利权)人 江苏东玖光电科技有限公司
代理机构 南京佰腾智信知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 黄杭飞
地址 221200江苏省徐州市睢宁县双沟镇空港经济开发区临空大道与安澜大道交叉口
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及靶材喷砂处理技术领域,提出了一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构,一种用于喷砂设备的TFT平面溅射靶材保护结构,包括工作台、靶材和防护组件,靶材放置在工作台的上端面,升降台包括升降杆和第一连接台,第一连接台固定安装在升降杆的下端面,第一连接台的下端转动安装有连接杆,连接杆的下端固定安装有第二连接台,防护板通过连接组件与第二连接台卡合连接。通过上述技术方案,解决了现有技术在转动时传统的保护装置就有可能会将靶材溅射面刮花,这样就会造成靶材不合格,并且由于传统的保护装置需要上下双向夹持,所以在调节高度时需要通过两个升降系统进行控制,增加了保护装置整体的成本的问题。