应用于双面抛光设备的物料管理方法、系统及存储介质
基本信息
| 申请号 | CN202011350935.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112405306B | 公开（公告）日 | 2022-03-22 |
| 申请公布号 | CN112405306B | 申请公布日 | 2022-03-22 |
| 分类号 | B24B29/02（2006.01）I;B24B7/17（2006.01）I;B24B7/22（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I;B24B41/00（2006.01）I;B24B49/10（2006.01）I;G06K17/00（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 李昀泽 | 申请（专利权）人 | 西安奕斯伟材料技术有限公司 |
| 代理机构 | 西安维英格知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 姚勇政;王渝 |
| 地址 | 710065陕西省西安市高新区西沣南路1888号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种应用于双面抛光设备的物料管理方法、系统及存储介质；该系统包括：在双面抛光设备的定盘外围等距离设置的多个标签阅读器、控制器以及设置在承载盘的电子标签；其中，所述多个标签阅读器，经配置为通过接收所述电子标签向外辐射的电磁信号测量获得所述承载盘的实测位置信息，并将所述承载盘的实测位置信息传输至所述控制器；所述控制器，经配置为当所述双面抛光设备停机下料时，将所述承载盘的实测位置信息与所述承载盘的预存位置信息进行比对；以及，相应于所述承载盘的实测位置信息与所述承载盘的预存位置信息之间的偏差大于设定阈值时，向所述双面抛光设备发送复位指令。 |
