一种维持大尺寸碳化硅晶型稳定的装置及生长方法

基本信息

申请号 CN202010517206.7 申请日 -
公开(公告)号 CN113122914A 公开(公告)日 2021-07-16
申请公布号 CN113122914A 申请公布日 2021-07-16
分类号 C30B23/00(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 杨丽雯;何丽娟;靳丽婕;程章勇;韦玉平;李天运;陈颖超;李百泉;张云伟;王丽君 申请(专利权)人 北京世纪金光半导体有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 100176北京市大兴区经济技术开发区通惠干渠路17号院
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种稳定大尺寸碳化硅晶型稳定的生长方法。包括(1)生长初期籽晶近生长界面通入保护气体,均匀(0001)小面及小面附近区域的料源饱和度。从而达到避免小面及小面附近台阶宽化的目的。该方法有助于减少异晶型在宽台阶上产生2D成核的可能性,从而提高晶体的稳定性。(2)生长后期在小面附近增加气流的基础上增加籽晶轴向提拉以及旋转,从而达到控制界面形状稳定和维持饱和度均一的两个目标,使得整个生长过程中晶型稳定。该发明的碳化硅单晶生长装置能应用于4‑6英寸及不同切割偏角的籽晶,甚至更大尺寸的晶体生长,大幅度稳定了小面及小面附近晶型的稳定性,得到了高质量的碳化硅单晶晶体。