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一种用于双面立式动平衡机的摆架结构

基本信息

申请号 CN202120080016.3 申请日 -
公开（公告）号 CN214121499U 公开（公告）日 2021-09-03
申请公布号 CN214121499U 申请公布日 2021-09-03
分类号 G01M1/02（2006.01）I;G01M1/16（2006.01）I 分类 测量；测试;
发明人 何珊;冯磊;金志兰;郭小伟;王宗佳 申请（专利权）人 上海衡望智能科技有限公司
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 代理人 林超
地址 310030浙江省杭州市西湖区三墩镇西园三路10号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种用于双面立式动平衡机的摆架结构。包括设备基座、摆架、主轴安装座、主轴组件、静不平衡采集组件和偶不平衡采集组件；两个摆架左右对称地布置于设备基座上，设备基座的上面设有通孔，主轴安装座穿设在设备基座上面的通孔内，且主轴安装座通过两个摆架浮动安装在设备基座上，主轴组件安装在主轴安装座上，静不平衡采集组件和偶不平衡采集组件相互垂直的布置在主轴安装座的前后两侧。本实用新型针对摆架的振型分析设计合理的尺寸，从而得到更好的分离比，将多个条形板结构间隔一定距离设计为一整体，得到了较为合适的平动和扭转刚度，同时也避免了多个零件装配而引入误差，得到了较好的静偶分离效果。