一种平面光学元件的面形修正方法
基本信息
| 申请号 | CN202110156854.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112817070A | 公开（公告）日 | 2021-05-18 |
| 申请公布号 | CN112817070A | 申请公布日 | 2021-05-18 |
| 分类号 | G02B1/10 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 朱元强;叶沈航;程章彬;廖以旺 | 申请（专利权）人 | 福建福特科光电股份有限公司 |
| 代理机构 | 福州市众韬专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 方金芝 |
| 地址 | 350100 福建省福州市闽侯县铁岭工业集中区二期7号路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种平面光学元件的面形修正方法，包括如下步骤：在平面光学元件的正面镀制要求的多层膜，并根据公式（1）在平面光学元件的背面镀制修正的单层膜，修正的单层膜厚度＝2/3×多层膜厚度×K1×K2公式（1）；公式（1）中，K1＝镀制多层膜使用的离子能量/镀制修正单层膜使用的离子能量，K2＝10×（平面光学元件的厚度/平面光学元件最大方向口径）。在平面光学元件的背面用SiO2单层膜修正平面光学元件的面形，较双面镀制相同薄膜的方案容易操作，且SiO2同各种光学元件材料匹配性好，牢固度好。修正后的面形精度高，很容易到达小于λ/10。 |
