一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布及其生产工艺
基本信息
| 申请号 | CN202210261700.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114683183A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114683183A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | B24D11/00（2006.01）I;B24D11/02（2006.01）I;B24D11/08（2006.01）I;C08L23/28（2006.01）I;C08L11/00（2006.01）I;C08K9/06（2006.01）I;C08K7/18（2006.01）I;C09D127/16（2006.01）I;C09D171/02（2006.01）I;C09D7/62（2018.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 李加海;黄国平;梁则兵;杨惠明;李元祥 | 申请（专利权）人 | 安徽禾臣新材料有限公司 |
| 代理机构 | 合肥正则元起专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 243000安徽省马鞍山市和县经济开发区姥下河东路标准化厂房1号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布及其生产工艺，属于精细加工技术领域。该种阻尼布从抛光接触面至吸附面依次包括助磨涂料层、拒水基垫和弹性垫；助磨涂料层由亲水改性的偏二氟乙烯和聚乙二醇为成膜材料，助磨涂料层的良好亲水性使得抛光液可均匀分散，聚乙二醇具有水溶性，在抛光过程中助磨涂料层缓慢浸蚀，磨料均匀释放参与抛光，可降低抛光液的浓度，使得抛光液中的磨粒易分散，从而提高抛光精度。拒水基垫通过导电石墨配合电晕处理获得均匀的用于抛光切削的凸起，且拒水基垫为橡胶基材质，具有良好的防渗性能，抛光切削微粉可充分回收，解决现有技术中贵重金属抛光切削微难以回收造成成本高的问题。 |
