光学邻近校正方法
基本信息
| 申请号 | CN200910194449.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101995763B | 公开（公告）日 | 2012-04-18 |
| 申请公布号 | CN101995763B | 申请公布日 | 2012-04-18 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 周从树 | 申请（专利权）人 | 上海高力电缆附件有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 上海宏力半导体制造有限公司;国家电网公司;上海市电力公司上海高力电缆附件有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市浦东张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种光学邻近校正方法，包括：根据光学衍射原理对设计图形进行修正以获得期望图形；根据掩模版图形，获得对应的曝光图形；获取所述曝光图形中的图案与所述期望图形中相应图案的差异；将所获得的差异与预定阈值进行比较：当所述差异小于或等于预定阈值时，光学邻近校正完成；当所述差异大于预定阈值时，调整掩模版图形，并对新的掩模版图形重新执行上述曝光、计算和比较的步骤，直至光学邻近校正完成。本发明缩短了光学邻近校正的时间，提高了生产效率。 |
