一种抗光凌空全息成像装置
基本信息
| 申请号 | CN202120154476.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214278644U | 公开（公告）日 | 2021-09-24 |
| 申请公布号 | CN214278644U | 申请公布日 | 2021-09-24 |
| 分类号 | G03H1/22（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 张一帆 | 申请（专利权）人 | 《文化中国》传媒股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京首捷专利代理有限公司 | 代理人 | 梁婧宇 |
| 地址 | 101500 北京市密云区兴盛南路8号院2号楼106室-198 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种抗光凌空全息成像装置，中央成像模块设置在框架中心，外围光线偏移模块包围中央成像模块且与框架连接；中央成像模块包括第一透明板，第一透明板的一侧设置有高光偏振膜，另一个设置有全息投影膜，高光偏振膜面向外围光线偏移模块的正面，全息投影膜面向外围光线偏移模块的背面；外围光线偏移模块为多个第二透明板，且位于正面和背面的第二透明板设置有减光材料。中央成像模块的外边缘通过框架隐藏，通过透明板的一侧设置有高光偏振膜，另一个设置有全息投影膜实现成像，通过在正面设置减光材料，降低成像空间亮度的同时提高外围透明板的反射光线，通过在背面设置减光材料，控制画面背景亮度。 |
