一种离子源极片清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202023229491.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214321026U | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN214321026U | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | B08B1/04（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 彭真;杨俊林 | 申请（专利权）人 | 广州禾信仪器股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 杨勋 |
| 地址 | 510000广东省广州市高新技术产业开发区科学城开源大道11号A3栋第三层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种离子源极片清洗装置，设计离子源极片清洗技术领域；该离子源极片清洗装置用于清洗质谱仪的离子源极片，质谱仪包括壳体，壳体内开设有过渡腔，过渡腔内安装有离子源极片和活动地设置于过渡腔内的样品靶托，样品靶托具有与过渡腔连通的安装腔，安装腔用于安装样品；该离子源极片清洗装置包括清洗靶，清洗靶包括靶座和清洗刷，靶座与样品靶托的尺寸适配，且用于安装于安装腔内，清洗刷设置于靶座，且至少部分伸出安装腔，且被配置为在样品靶托的带动下清洗离子源极片。该离子源极片清洗装置具有极片清洗便捷、清洗时间短、效率高、成本低，且无需拆卸离子源极片，能有效地保证仪器整体精密度的优点。 |
