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一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置

基本信息

申请号 CN201921935891.4 申请日 -
公开（公告）号 CN210886210U 公开（公告）日 2020-06-30
申请公布号 CN210886210U 申请公布日 2020-06-30
分类号 C23C14/35(2006.01)I 分类 -
发明人 刁训刚;秦建平;刁诗如 申请（专利权）人 纳能镀膜丹阳有限公司
代理机构 北京领科知识产权代理事务所（特殊普通合伙） 代理人 艾变开
地址 212300江苏省镇江市丹阳市云阳镇南三环路科创园C3楼
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置，所述制备装置包括磁控靶、样品架和样品挡板，所述磁控靶倾斜设置，所述样品架设在磁控靶的下方，所述样品架的样品台为板状，且内部设有加热器，样品台上方设置样品罩，所述样品罩具有多个样品通孔。所述样品挡板设在样品台的上方，且水平放置，样品挡板包括气缸、转挡轴、支柱、两个转挡连片和两个挡板，所述气缸的活塞连接并能够带动转挡轴做伸缩运动，所述支柱的底部垂直固定在转挡轴上，支柱的顶端同时连接两个转挡连片的前端，两个转挡连片的后端分别连接两个挡板，所述支柱通过两个转挡连片分别带动两个挡板相互靠近或相互远离。