一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置

基本信息

申请号	CN201911096819.1	申请日	-
公开（公告）号	CN110777344A	公开（公告）日	2021-07-06
申请公布号	CN110777344A	申请公布日	2021-07-06
分类号	C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54;B82Y40/00	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	刁训刚;秦建平;刁诗如	申请（专利权）人	纳能镀膜丹阳有限公司
代理机构	北京领科知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	艾变开
地址	212300 江苏省镇江市丹阳市云阳镇南三环路科创园C3楼
法律状态	-

摘要

本发明涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置，包括主机、真空抽气装置、电源及控制系统和机柜，主机包括工作腔室、样品架、五个磁控靶和样品挡板，五个磁控靶倾斜地环绕在工作腔室顶部，实现共溅射或依次溅射；每个磁控靶配有一个靶挡板，靶挡板通过收缩开合临时遮挡对应磁控靶；样品架设置在磁控靶的下方，样品架顶部设有样品罩，样品罩具有多个样品通孔，用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件。样品挡板设在样品罩的上方。镀膜制备装置的磁控靶的设计充分利用了工作腔室内部的空间，能够实现共溅射或依次溅射镀膜。样品罩具有不少于100个样品通孔，能够单次同时制备上百个同样的样品，为材料基因组高通量镀膜提供可能。