湿法刻蚀印消除装置
基本信息
申请号 | CN201620544109.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN205863204U | 公开(公告)日 | 2017-01-04 |
申请公布号 | CN205863204U | 申请公布日 | 2017-01-04 |
分类号 | H01L31/18(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 杨斌;卢河;黄凯 | 申请(专利权)人 | 江苏爱多能源科技股份有限公司 |
代理机构 | 江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 刘宏亮 |
地址 | 214400 江苏省无锡市江阴市周庄镇宝池路1号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种湿法刻蚀印消除装置,包括用于输送太阳能硅片的输送架、水膜喷淋装置、去PSG槽、水膜减薄装置、刻蚀槽,输送架包括若干转动设置且等距分布的输送辊,水膜喷淋装置包括沿着输送辊的长度方向延伸的输水管、设置于输水管底部且与输水管的空腔相连通的喷头,位于去PSG槽以及刻蚀槽段的输送辊的部分浸设于去PSG槽以及刻蚀槽内,水膜减薄装置包括转动设置于输送辊上方的滚轮,滚轮的转动方向与输送辊的转动方向相反,滚轮与位于输送辊上的太阳能硅片的上表面相切,有效进行刻蚀印的消除,提升制程控制水平,从而提升公司的竞争力,直接提升产品合格率0.2%。 |
