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湿法刻蚀印消除装置

基本信息

申请号 CN201620544109.6 申请日 -
公开（公告）号 CN205863204U 公开（公告）日 2017-01-04
申请公布号 CN205863204U 申请公布日 2017-01-04
分类号 H01L31/18(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 杨斌;卢河;黄凯 申请（专利权）人 江苏爱多能源科技股份有限公司
代理机构 江阴大田知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 刘宏亮
地址 214400 江苏省无锡市江阴市周庄镇宝池路1号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种湿法刻蚀印消除装置，包括用于输送太阳能硅片的输送架、水膜喷淋装置、去PSG槽、水膜减薄装置、刻蚀槽，输送架包括若干转动设置且等距分布的输送辊，水膜喷淋装置包括沿着输送辊的长度方向延伸的输水管、设置于输水管底部且与输水管的空腔相连通的喷头，位于去PSG槽以及刻蚀槽段的输送辊的部分浸设于去PSG槽以及刻蚀槽内，水膜减薄装置包括转动设置于输送辊上方的滚轮，滚轮的转动方向与输送辊的转动方向相反，滚轮与位于输送辊上的太阳能硅片的上表面相切，有效进行刻蚀印的消除，提升制程控制水平，从而提升公司的竞争力，直接提升产品合格率0.2%。