复合镀层、镀膜设备及镀膜方法

基本信息

申请号 CN201880005004.5 申请日 -
公开(公告)号 CN110088353B 公开(公告)日 2019-08-02
申请公布号 CN110088353B 申请公布日 2019-08-02
分类号 C23C14/34(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 陈国安;方彬;王浩颉;赵玉刚 申请(专利权)人 三环瓦克华(北京)磁性器件有限公司
代理机构 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 三环瓦克华(北京)磁性器件有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司
地址 102200北京市昌平区创新路10号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种形成于钕铁硼稀土磁体表面的复合镀层、镀膜设备及镀膜方法。镀膜设备包括镀膜室,镀膜室的顶部安装有靶材,其特征在于,靶材包括第一靶材和第二靶材;第一靶材为Nd靶材,或者为Pr靶材,或者为Nd、Pr、Cu中至少两种以上的合金靶材;第二靶材为Tb靶材;第一靶材位于第二靶材的前方。本发明的镀膜设备及镀膜方法,提高了重稀土金属的使用效率。