复合镀层、镀膜设备及镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN201880005004.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110088353B | 公开（公告）日 | 2019-08-02 |
| 申请公布号 | CN110088353B | 申请公布日 | 2019-08-02 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陈国安;方彬;王浩颉;赵玉刚 | 申请（专利权）人 | 三环瓦克华（北京）磁性器件有限公司 |
| 代理机构 | 北京律和信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 三环瓦克华（北京）磁性器件有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司 |
| 地址 | 102200北京市昌平区创新路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种形成于钕铁硼稀土磁体表面的复合镀层、镀膜设备及镀膜方法。镀膜设备包括镀膜室，镀膜室的顶部安装有靶材，其特征在于，靶材包括第一靶材和第二靶材；第一靶材为Nd靶材，或者为Pr靶材，或者为Nd、Pr、Cu中至少两种以上的合金靶材；第二靶材为Tb靶材；第一靶材位于第二靶材的前方。本发明的镀膜设备及镀膜方法，提高了重稀土金属的使用效率。 |
