光学元件的高效清洗工艺

基本信息

申请号 CN202110506808.7 申请日 -
公开(公告)号 CN113210349A 公开(公告)日 2021-08-06
申请公布号 CN113210349A 申请公布日 2021-08-06
分类号 B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08;B08B3/04 分类 清洁;
发明人 陈吕勇;马登超;步雪斌;阎国安 申请(专利权)人 南通瑞景光电科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 226000 江苏省南通市港闸区永福路10号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,清洗90‑150s;2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入清水槽,清洗60‑90s;3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;清洗90‑150s;4)清水漂洗;5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;清洗90‑150s;6)清水漂洗;7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。本发明具有的清洗时间短,清洗效果好和生产效率高等特点。