光学元件镀膜工艺
基本信息
| 申请号 | CN202110506998.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113265620A | 公开（公告）日 | 2021-08-17 |
| 申请公布号 | CN113265620A | 申请公布日 | 2021-08-17 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 马登超;陈吕勇;步雪斌;阎国安 | 申请（专利权）人 | 南通瑞景光电科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 226000江苏省南通市港闸区永福路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光学元件镀膜工艺，包括以下步骤：S1:将装有光学元件的夹具固定安装至工件盘上；S2:利用工件盘安装组件将工件盘安装至镀膜机的顶部；S3:向镀膜机底部的蒸发组件内添加镀膜液，蒸发组件设置有三个蒸发源，分别为蒸发源A、蒸发源B和蒸发源C；S4:关闭镀膜机，抽真空，然后向镀膜机内注入用于产生离子的气体，并加温加压。本发明的工艺可以提高良品率，提高产品透光率。 |
