使基体表面亲水的光催化法、具有该表面的基体及其制法
基本信息
| 申请号 | CN96193834.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN1184498A | 公开（公告）日 | 1998-06-10 |
| 申请公布号 | CN1184498A | 申请公布日 | 1998-06-10 |
| 分类号 | C09K3/18;C08J7/04;A47G1/00;C03C17/23;F21M7/00;G02B1/10 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 早川信;小岛荣一;则本圭一郎;町田光义;北村厚;渡部俊也;千国真;藤昭;桥本和仁 | 申请（专利权）人 | 东陶机器（广州）有限公司 |
| 代理机构 | 中国专利代理（香港）有限公司 | 代理人 | 东陶机器株式会社;TOTO株式会社 |
| 地址 | 日本福冈县 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种制备高度亲水基材表面的方法,包括用含光催化半导体材料如二氧化钛层涂覆该表面的步骤和对光催化材料光激发的步骤,以调节上述层的表面与水的接触角至约10度或更小角度。当本方法用于基材如面镜、棱镜或窗玻璃时,可防止水滴长大使基材变成高度抗雾。用本法处理过的制品不会在表面上产生污染物的沉积,因而容易由雨水或用水清洁。 |
