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一种清洗半导体机台零部件的方法

基本信息

申请号 CN201811133390.4 申请日 -
公开（公告）号 CN109201581B 公开（公告）日 2021-09-07
申请公布号 CN109201581B 申请公布日 2021-09-07
分类号 B08B3/02;B08B3/08;B08B1/00;F26B5/04 分类 清洁;
发明人 大岩一彦;姚科科;张瑾;广田二郎;兵藤芳温;吕培聪 申请（专利权）人 宁波顺奥精密机电有限公司
代理机构 北京东正专利代理事务所（普通合伙） 代理人 刘瑜冬
地址 315403 浙江省宁波市余姚市经济开发区城东新区冶山路
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开的一种清洗半导体机台零部件的方法，包括如下步骤：(1)配制清洗液；(2)浸泡半导体机台零部件；(3)采用擦擦克林伸入容器内，擦拭经步骤(2)浸泡后的半导体机台零部件；(4)经步骤(3)擦拭处理后，将半导体机台零部件转移到另一个干净容器内，将纯化水装入高压水枪后，对所述零部件表面进行冲洗；(5)确认经步骤(4)冲洗后的半导体机台零部件表面已无污染物残留即可。本发明的优点在于，本发明的方法低成本、易操作、毒性小，同时有效去除半导体机台零部件上的污染物，通过该方法清洗后的半导体机台零部件清洁度高，从而有效保障制作出来的芯片成品率高，无污染。