一种光蚀刻显影液的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201310134754.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103197515A | 公开（公告）日 | 2013-07-10 |
| 申请公布号 | CN103197515A | 申请公布日 | 2013-07-10 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 徐雅玲;黄源;尹云舰 | 申请（专利权）人 | 合肥格林达电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 合肥格林达电子材料有限公司 |
| 地址 | 230012 安徽省合肥市瑶海区张洼路新站区工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光蚀刻显影液的制备方法，本发明通过混合一定比例的三甲胺，三乙胺，和碳酸二甲酯，合成四甲基铵和三乙基单甲基铵碳酸单甲酯混合物中间体。然后经过水解，纯化，电解工序得到四甲基氢氧化铵和三乙基单甲基氢氧化铵混合铵显影液溶液。同时也可通过加入碳酸二乙酯得到更多种类烷基结构的烷基氢氧化铵水溶液。所得到的不同链长结构的烷基氢氧化铵混合铵显影液具有生产价格低，工艺简单，金属含量低，适合细精度窄线宽要求的短波长光源工艺的显影需求。 |
