一种贵金属氧化物电极表面污物的去除方法
基本信息
| 申请号 | CN202010676213.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111910189A | 公开（公告）日 | 2020-11-10 |
| 申请公布号 | CN111910189A | 申请公布日 | 2020-11-10 |
| 分类号 | C23G1/10(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 蒋玉思;肖方明;邵彩茹;高远 | 申请（专利权）人 | 广东省科学院 |
| 代理机构 | 广州科粤专利商标代理有限公司 | 代理人 | 广东省稀有金属研究所 |
| 地址 | 510650广东省广州市天河区长兴路363号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种贵金属氧化物电极表面污物的去除方法，该方法包括以下步骤：①用2～5Kg/cm2压力的高压水冲洗，靶距为20～50cm，时间为5～10min；②在包含还原剂和湿润剂化学清洗液中，室温下超声化学清洗，③去离子水冲洗然后110～120℃下干燥5～10min。具有处理时间短、去除污物彻底、效率高和适应性强等优点，适应工业化应用要求，解决了现有技术存在的贵金属氧化物电极表面污物去除不彻底，且去除时间较长的问题。 |
