一种CVD金刚石厚膜的沉积方法
基本信息
| 申请号 | CN201810306685.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108505016A | 公开（公告）日 | 2018-09-07 |
| 申请公布号 | CN108505016A | 申请公布日 | 2018-09-07 |
| 分类号 | C23C16/27 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 樊巍;范艳芬 | 申请（专利权）人 | 河南佰特科技有限公司 |
| 代理机构 | 洛阳润诚慧创知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 河南佰特科技有限公司 |
| 地址 | 471000 河南省洛阳市高新开发区延光路火炬创新创业园A5号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种CVD金刚石厚膜的沉积方法，本发明所述的沉积方法制备的金刚石厚膜具有稳定可靠和沉积速率高等特点，完全能满足实际需求，本发明技术方案简单，适合大范围的推广和应用。 |
