一种基于DOE的聚焦圆环光斑产生方法和系统
基本信息
申请号 | CN202010803658.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112034627A | 公开(公告)日 | 2020-12-04 |
申请公布号 | CN112034627A | 申请公布日 | 2020-12-04 |
分类号 | G02B27/48(2006.01)I;G02B27/42(2006.01)I | 分类 | 光学; |
发明人 | 彭亦超 | 申请(专利权)人 | 北京润和微光科技有限公司 |
代理机构 | 北京知呱呱知识产权代理有限公司 | 代理人 | 北京润和微光科技有限公司 |
地址 | 100080北京市海淀区中关村天创科技大厦1011B | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请实施例公开了一种基于DOE的聚焦圆环光斑产生方法和系统,所述方法包括:在加工衍射光学元件DOE时,进行连续涡旋相位曲面台阶化拟合;利用超几何函数求解涡旋相位调试后的聚焦光斑的能量分布;利用聚焦面的超几何函数分布计算聚焦光斑内外径。从而产生尺寸可控的聚焦圆环光斑。 |
