一种单晶硅片的双面抛光装置
基本信息
| 申请号 | CN202021901917.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213081112U | 公开（公告）日 | 2021-04-30 |
| 申请公布号 | CN213081112U | 申请公布日 | 2021-04-30 |
| 分类号 | B24B31/10;B24B31/12;B24B47/00 | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 向菊 | 申请（专利权）人 | 深圳市羿烽科技有限公司 |
| 代理机构 | 重庆百润洪知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郝艳平 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市宝安区西乡街道桃源社区前进二路134号锦联大厦A708 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型新型涉及一种单晶硅片的双面抛光装置，包括用于盛放磨削液的液体容器；液体容器底部设置有旋转驱动部；液体容器内设置有第一涡轮；涡轮与旋转驱动部相接，液体容器上侧设置有硅片托盘；硅片托盘设置有硅片夹持机构；硅片托盘上侧连接有旋转机构；旋转机构包括第一主轴和第二主轴；第一主轴和第二主轴之间通过反转齿轮箱相接；第一主轴上设置第二涡轮；硅片托盘设置于第二主轴底部。本实用新型通过在第二主轴外侧固定连接第二涡轮，第二主轴与第一主轴反向转动，使第二涡轮的转动方向与硅片托盘的转动方向相反，由于第二涡轮位于硅片托盘的上方，第二涡轮可以对单晶硅片的上表面形成反向转动的高速水流，对单晶硅片的上表面进行抛光。 |
