微波激发PVD镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201220724436.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN203128646U | 公开（公告）日 | 2013-08-14 |
| 申请公布号 | CN203128646U | 申请公布日 | 2013-08-14 |
| 分类号 | C23C14/28(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王奉瑾 | 申请（专利权）人 | 北京科普斯特自动化仪表有限公司 |
| 代理机构 | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人 | 张全文 |
| 地址 | 528400 广东省中山市火炬开发区兴业路2号4楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种微波激发PVD镀膜设备，包括壳体及靶材，还包括具有微波发射喇叭的微波发生器，该壳体具有密封的PVD腔体，PVD腔体内安装有靶材载舟，靶材载舟具有用于放置靶材的容置槽，待镀膜材料位于容置槽上方且其需镀膜的一面与之相对；微波发生器的本体安装于PVD腔体外，其微波发射喇叭设于PVD腔体内；PVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网，该金属网位于靶材载舟与所述待镀膜材料之间。PVD腔体内安装有用于驱动靶材载舟沿待镀膜材料表面平行移动的移动装置。本实用新型加热效率高、镀膜效率高、容易控制加热温度、不易损坏待镀膜材料、制造成本低廉，本实用新型所镀的膜厚均匀、镀膜表面光滑。 |
