一种硅片用超声波清洗机构
基本信息
| 申请号 | CN202022266861.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214600733U | 公开（公告）日 | 2021-11-05 |
| 申请公布号 | CN214600733U | 申请公布日 | 2021-11-05 |
| 分类号 | B08B3/12（2006.01）I;B08B3/08（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 余涛;朴灵绪;郭巍 | 申请（专利权）人 | 若名芯半导体科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 苏州铭浩知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 朱斌兵 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区4栋101室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种硅片用超声波清洗机构，包括容纳槽、排液框、硅片放置盒、旋转电机、超声波设备和导流管；所述容纳槽内具有容置空间，且所述容纳槽的一侧顶部设有溢流槽；所述排液框设于所述溢流槽一侧；所述硅片放置盒设于所述容置空间内，且所述硅片放置盒用于放置多个硅片；所述旋转电机设于所述硅片放置盒的顶部，用于驱动硅片放置盒进行旋转；所述超声波设备设于所述容纳槽的外壁上；所述导流管设于所述容纳槽内，用于导流清洗液，本实用新型利用超声波设备配合药液对硅片进行清洗，同时利用旋转电机驱动硅片在超声波设备工作时进行转动，从而避免了硅片上存在清洗的死角区域，确保了硅片的清洗效率和质量均达到要求。 |
