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一种晶元用预清洗机构

基本信息

申请号	CN202021208850.8	申请日	-
公开（公告）号	CN213103379U	公开（公告）日	2021-05-04
申请公布号	CN213103379U	申请公布日	2021-05-04
分类号	B08B1/02;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67	分类	清洁;
发明人	余涛;唐杰;朴灵绪;张霞;郭巍	申请（专利权）人	若名芯半导体科技（苏州）有限公司
代理机构	苏州铭浩知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	朱斌兵
地址	215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区4栋101室
法律状态	-

摘要

本实用新型涉及一种晶元用预清洗机构，包括设置在缓冲腔内的：承载台，用于承载晶元；承载台上设有若干个竖向设置的高度可调的滚轮；滚轮的顶部设有限位销，多个限位销之间构成了用于定位晶元的限位区域；可转动的正面刷子，可横向移动的设置所述承载台的一侧，用于对晶元的正面面进行横向刷洗；可转动的反面刷子，可横向移动的设置所述承载台的一侧，用于对晶元的反面进行横向刷洗；喷嘴组件，用于将清洗液喷到晶元的正反面上，本实用新型通过对滚轮的高度进行调整，增加了晶元下表面与承载台之间的距离，从而便于反面刷子配合药液对晶元反面进行清洗；同时四个滚轮带动晶元旋转，配合正面刷子和反面刷子对晶元进行预清洗，确保晶元处于保湿和清洗后的状态。