一种干法制绒黑硅后清洗工艺
基本信息
| 申请号 | CN201810420509.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108682615A | 公开（公告）日 | 2018-10-19 |
| 申请公布号 | CN108682615A | 申请公布日 | 2018-10-19 |
| 分类号 | H01L21/02;H01L21/306;H01L31/18;H01L31/0236 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 王亚勉;韩培勇;丁建宁;黄丽君;刘金浩;袁宁一;上官泉元 | 申请（专利权）人 | 常州比太黑硅科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京集智东方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 常州比太黑硅科技有限公司 |
| 地址 | 213164 江苏省常州市武进高新区凤翔路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种干法制绒黑硅后清洗工艺，包括：使用HF去除硅片表面的反应副产物，再依次使用去离子水、KOH溶液、去离子水、HF/HCL的混合溶液、去离子水清洗硅片后脱水烘干得到黑硅成品。本发明由于避免了使用含有N元素的HNO3及BOE而极大降低了污水处理难度及排废量；干法制绒后使用碱清洗的微观尖端组织减少，可带来一定程度的提效，工艺时间可大大减少并大大提高产能。 |
