一种真空腔室腔内升降机构
基本信息
| 申请号 | CN201820668761.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208250461U | 公开（公告）日 | 2018-12-18 |
| 申请公布号 | CN208250461U | 申请公布日 | 2018-12-18 |
| 分类号 | C30B33/12（2006.01）I; H01J37/32（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 朱海剑; 庄正军; 丁建宁; 袁宁一; 上官泉元 | 申请（专利权）人 | 常州比太黑硅科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京集智东方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 常州比太黑硅科技有限公司 |
| 地址 | 213164 江苏省常州市武进高新区凤翔路７号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空腔室腔内升降机构，其对称安装于真空腔室的底部四个角，并通过密封套、O型圈一、Y型密封圈、O型圈二、升降轴和真空腔室共同形成一个良好的密封环境，使外部气体无法进入真空腔室，气缸在驱动气体的推动下实现上下动作，从而带动升降轴和顶板托着载板进行升降动作，在有腐蚀气体的环境下不但能长期保证良好的动密封效果，而且各升降机构之间能保证良好的同步性。 |
