一种同时制造碳化硅单晶及碳化硅多晶的装置及方法

基本信息

申请号 CN202210112784.1 申请日 -
公开(公告)号 CN114395799A 公开(公告)日 2022-04-26
申请公布号 CN114395799A 申请公布日 2022-04-26
分类号 C30B28/00(2006.01)I;C30B28/04(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 郭超;母凤文 申请(专利权)人 北京青禾晶元半导体科技有限责任公司
代理机构 北京品源专利代理有限公司 代理人 王士强
地址 100083北京市海淀区花园北路25号小关(厂南区)4号楼1层146
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种同时制造碳化硅单晶及碳化硅多晶的装置及方法,其属于半导体制造技术领域,同时制造碳化硅单晶及碳化硅多晶的装置包括腔室、感应线圈、坩埚及晶杆组件;坩埚设于腔室内,用于容置助溶剂;晶杆组件包括晶杆及连接于晶杆一端并位于坩埚内的晶托,晶杆的另一端位于腔室外;坩埚为石墨坩埚,晶托连接籽晶,石墨坩埚的底部内壁能生长碳化硅多晶,籽晶未连接晶托的表面能生长碳化硅单晶;或者坩埚的底部内壁设有籽晶块,晶托为石墨托,籽晶块上能生长碳化硅单晶,石墨托未连接晶杆的表面能生长碳化硅多晶。本发明能够在一次制造过程中,同时得到碳化硅单晶和碳化硅多晶,无需分次制造或采用两个制造装置制造,具有较高的效率和较低的成本。