一种高阻膜及其制备方法与应用
基本信息
申请号 | CN202011001960.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112209626A | 公开(公告)日 | 2021-01-12 |
申请公布号 | CN112209626A | 申请公布日 | 2021-01-12 |
分类号 | C03C17/245;G02F1/1333 | 分类 | 玻璃;矿棉或渣棉; |
发明人 | 王金科;陈明飞;朱启煌;刘永成;龙泷;谭宏 | 申请(专利权)人 | 长沙壹纳光电材料有限公司 |
代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 长沙壹纳光电材料有限公司 |
地址 | 410000 湖南省长沙市金洲新区澳洲路068号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种高阻膜及其制备方法与应用,所述高阻膜的膜层方阻在107Ω/□~1010Ω/□之间且在550nm下透光率不低于97%。本发明方案的高阻膜具有较好的抗静电作用,同时还具备在可见光区内的良好透光性,且不影响器件的触控功能;本发明方案的高阻膜可较好地满足In‑cell方式液晶盒减薄后屏蔽层的性能需求,从而更好地促进显示屏尤其是内嵌式触摸屏领域的发展。 |
