一种用于管式镀膜设备的供源系统及供源方法
基本信息
| 申请号 | CN202210343891.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114686854A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114686854A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I;C23C16/40（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李少猛;郑伟;刘晨晶 | 申请（专利权）人 | 晶澳太阳能有限公司 |
| 代理机构 | 北京市万慧达律师事务所 | 代理人 | - |
| 地址 | 055550河北省邢台市宁晋县晶龙大街 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开一种用于管式镀膜设备的供源系统及供源方法，包括：三甲基铝供给柜，供给气态的三甲基铝；一级管路，连通于三甲基铝供给柜以输送气态的三甲基铝；二级管路，并列连通于一级管路以输送经一级管路输送的三甲基铝；多个分支管路，依次从二级管路分支出来并分别连通到对应的用于镀膜的工艺炉管；多个真空泵设置在二级管路的末端并且与工艺炉管一一对应，在一级管路上或者在二级管路上且在所有的分支管路的上游侧设置有总控制阀门；分支管路上且紧邻工艺炉管的入口处设置有分支阀门，在二级管路上且在所有的分支管路的下游侧设置有清洗阀门。本申请缩短了分支阀门与工艺炉管之间的管路长度，取消了后清洗，提高了三甲基铝供给柜的利用率。 |
