一种用于平面光波导器件的薄膜制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201410085458.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103809242B | 公开（公告）日 | 2017-08-25 |
| 申请公布号 | CN103809242B | 申请公布日 | 2017-08-25 |
| 分类号 | G02B6/13 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 刘春梅;李朝阳 | 申请（专利权）人 | 四川飞阳科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王宝筠 |
| 地址 | 610209 四川省成都市双流区西南航空港经济开发区长城路一段185号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种用于平面光波导器件的薄膜制备方法，包括：提供待制备薄膜的基底，所述基底上具有沟槽；在所述基底的沟槽区域施加偏压，使形成所述薄膜的离子沿与基底垂直方向呈一定夹角的方向入射进入沟槽，在所述沟槽的底部和侧壁上形成薄膜；其中，所述形成所述薄膜的离子位于所述基底上方的等离子体及等离子体鞘层中。本发明通过使形成所述薄膜的离子沿与基底垂直方向呈一定夹角的方向入射进入沟槽，在所述沟槽的底部和侧壁上形成薄膜，从而解决了沟槽侧壁上很难形成薄膜的问题，进而制备出了均匀性较好的上包层薄膜，提高了上包层薄膜的质量以及平面光波导器件的性能。 |
