一种平面光波导的湿法刻蚀方法及制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201510093910.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104635299B | 公开（公告）日 | 2018-08-21 |
| 申请公布号 | CN104635299B | 申请公布日 | 2018-08-21 |
| 分类号 | G02B6/126;C23F1/02 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 向舟翊;李朝阳 | 申请（专利权）人 | 四川飞阳科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王宝筠 |
| 地址 | 610209 四川省成都市双流县西南航空港经济开发区长城路一段185号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种平面光波导的湿法刻蚀方法，用于对衬底表面的金属层进行快速刻蚀，所述湿法刻蚀方法包括：在金属层表面形成图案化的光刻胶层，作为第一掩膜层；将所述衬底具有金属的一面向上水平放置并浸没于刻蚀液中，对所述金属层进行刻蚀，形成图案化的金属层，在刻蚀过程中，使得所述刻蚀液与所述衬底相对运动；刻蚀完成后去除所述第一掩膜层。采用所述湿法刻蚀方法对所述衬底进行刻蚀，成本低且工作效率高。本申请还公开了一种平面光波导的制作方法，利用此方法能使制作光波导的效率提高，成本降低。 |
