一种用于存储器硬盘的CMP浆料及使用该浆料的抛光方法
基本信息
| 申请号 | CN201610247000.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107304331A | 公开（公告）日 | 2017-10-31 |
| 申请公布号 | CN107304331A | 申请公布日 | 2017-10-31 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 仲跻和 | 申请（专利权）人 | 江苏天恒纳米科技股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 226601 江苏省南通市城东镇东海大道(东)18号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于存储器硬盘的CMP浆料及使用该浆料的抛光方法，包括CMP浆料组合物和研磨料，CMP浆料组合物包括含有羟基、羧基或其两者的化合物、辅助添加剂以及去离子水，研磨料为二氧化硅溶胶，其中将二氧化硅溶胶加入CMP浆料组合物中并加入去离子水稀释，直至CMP浆料体系的粘度小于10(mPa.s)，pH值在9.0‑10.0之间波动。本发明在CMP浆料体系中增加辅助添加剂，用以提高CMP浆料的研磨抛光效果，且研磨料采用碱性球形纳米粒子，其硬度小，能够解决传统CMP浆料对硬盘基片的划伤问题，且稳定性高，对设备要求低，使得该CMP浆料的抛光选择性高，可操作性强，可广泛用于存储器硬盘的抛光领域。 |
