一种微透镜阵列光栅及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202110919289.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113740942A | 公开（公告）日 | 2021-12-03 |
| 申请公布号 | CN113740942A | 申请公布日 | 2021-12-03 |
| 分类号 | G02B3/00（2006.01）I;G02B5/18（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 金建;邸思;王旭迪;孙学通 | 申请（专利权）人 | 广州先进技术研究所 |
| 代理机构 | 广州容大知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘新年 |
| 地址 | 511458广东省广州市南沙区海滨路1121号A栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及光学技术领域，具体涉及一种微透镜阵列光栅及其制备方法和应用。所述微透镜阵列光栅的制备方法为采用具有气孔阵列的微流控芯片，利用水压将PDMS光栅变形为微透镜阵列光栅。本发明采用微流控技术制作微透镜阵列光栅上，解决了传统工艺制作微透镜阵列光栅时存在的集成度不高以及工艺不可控等问题。本制备的微透镜阵列光栅元件，组合了聚焦和色散两种功能，相比传统元件，降低了元件的尺寸和成本；微透镜阵列光栅可以在同一个基片上集成不同尺寸的微透镜，使其同时具有不同的分光功能，提高了元件的集成度。 |
